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   1.完善先进的研发手段
   公司研发中心拥有先进的进口大型计算机、器件模拟软件、工艺模拟软件、以及版图设计软件等各种专业软件,为公司产品研发、设计创造了良好的条件;并且开展芯片的版图设计,纵向结构设计,对制造工艺参数进行计算机模拟;同时与公司现有工艺生产线紧密配合,使新的设计迅速通过工艺生产线得到验证,从而进一步改进和优化设计。

  2.引进先进的工艺装备
   公司拥有从奥地利微系统公司(AMS公司)及日本NEC引进的完整的MOS工艺生产线,其中步进光刻机为日本尼康公司的NSR-2005i10C,适用0.45微米线宽的大规模集成电路光刻;离子注入机为美国伊顿公司的GSD200(注入功率200KeV),GSD-HE(注入功率1MeV),是到目前为止世界上最先进的微电子专用设备之一,CVD设备为现今最主流的美国应用材料公司(AMAT)的P5000设备。生产线完整地配备了各种检测设备仪器,包括HITACHI的S-8820扫描电子显微镜、NANOMETRIX的UV216S/OS2表面状态分析仪、IVS的IVS120关键尺寸检测仪等非常先进昂贵的检测仪器。



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